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莱伯泰科《硅片表面金属离子国产检测仪器首创项目》 获中国检验检测学会科学技术奖

更新时间:2024-03-18      点击次数:394

近期,“2023年度中国检验检测学会科学技术奖”获奖名单公布,北京莱伯泰科仪器股份有限公司(简称“莱伯泰科”)凭借其《硅片表面金属离子国产检测仪器首创项目》荣获科学技术进步奖二等奖。

 

获奖 

该奖项由中国检验检测学会设立,旨在表彰那些在检验检测科学技术领域或相关领域,通过技术发明、科技进步、国际科技合作等活动,对推动检验检测科学发展做出显著贡献的组织和个人。

莱伯泰科于2021年5月和2023年3月分别推出了自主研发的LabMS 3000电感耦合等离子体质谱仪和LabMS 5000电感耦合等离子体串联质谱仪,其技术成熟度与产品可靠性已经满足国内集成电路制造企业对28nm以上制程硅片表面金属离子检测的需求,并已成功应用于半导体晶圆制造企业,在半导体行业有了巨大突破。

莱伯泰科此次获奖的《硅片表面金属离子国产检测仪器首创项目》成功解决了国产仪器在此领域的技术空白,有望打破国外技术的长期垄断。该项目依托先进的ICP离子源技术、加强的离子传输系统和基于CAN总线的电控系统,实现了仪器的高效稳定运行及精准检测,满足了半导体硅片行业对极低检出限的严苛要求。

实验 

凭借在电感耦合等离子体质谱技术领域的丰富创新经验,莱伯泰科一直致力于为半导体行业提供更加精准、高效的解决方案。今天的荣誉标志着莱伯泰科在科技创新道路上达到了新的里程碑。未来,莱伯泰科将继续专注于高端科研设备的研发,努力推动科学仪器技术的持续进步,为行业的发展贡献自己的智慧和力量。

电感耦合等离子体质谱仪LabMS 3000 ICP-MS

电感耦合等离子体质谱仪LabMS3000ICP-MS5432 

l   强大:集成型高基质进样系统,支持在线氩气稀释和有机样品加氧除碳,从而减少样品前处理时间并避免此过程中引入的各种污染

l    精准:新一代碰撞反应池技术,消除棘手的多原子离子和双电荷离子干扰,提升数据质量

l   安全:具有多重安全防控以及定时维护日志,确保仪器在安全、可靠的状态下运行,尽量减少计划外的停机和提供安全保护

l   智能:HiMass智能工作站,中英文语言实时切换,支持接入实验室管理系统和定制报告模版,向导式设计更符合中国人操作习惯

l      高效:与LabTech前处理设备无缝衔接实现一站式元素分析解决方案,使元素分析更高效、更准确、更安全

LabMS 5000 电感耦合等离子体串联质谱仪(ICP-MS/MS)

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l    精准:MS/MS模式实现受控且可靠的干扰去除,精准去除质量干扰离子,从而获得更低的检测限和准确的超痕量分析结果。

l    稳定:采用工业标准27.12MHz 全固态RF发生器,具有高稳定性及可靠性;优异的离子传输系统设计即使在MS/MS模式下也具有良好的检测稳定性。

l    可靠:通过 SEMI S2 认证,多达十重安全防护配置,带来全面可靠的安全防护,保证仪器长时间安全可靠运行。

l   强大:全基体进样系统结合接口设计及加强离子传输系统,带来强大的基体耐受性,即使高基体直接进样也可有效降低信号漂移。

l    易用:HiMass智能工作站,一键式,向导式、模块化设计,界面简洁直观,易学易用,提高工作效率。