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ICP-MS|莱伯泰科精彩亮相“2023光刻胶及聚酰亚胺先进技术和产业应用研讨会

更新时间:2023-08-03      点击次数:848

        2023年5 月 26 日,莱伯泰科受电子化工新材料产业联盟的邀请,出席江苏常州“2023•光刻胶及聚酰亚胺先进技术和产业应用研讨会”,大会上莱伯泰科带来半导体领域解决方案,并与行业内各位专家进行热切讨论。

光刻会场 

会议图片

光刻是半导体制造微图形工艺的核心,光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的 35%。目前国内光刻胶产业仍处于发展起步阶段,高端半导体光刻胶市场仍被日本和美国公司垄断,国产替代率较低。

2021年5月20日,莱伯泰科重磅发布LabMS 3000电感耦合等离子体质谱仪,强势进军半导体行业。2023年3月10日,莱伯泰科隆重推出针对于半导体行业研发生产的LabMS 5000 ICP-MS/MS电感耦合等离子体质谱,致力于为半导体行业用户提供更加精准、高效的解决方案。

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电感耦合等离子体质谱仪LabMS 3000 ICP-MS

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LabMS 5000 电感耦合等离子体串联质谱仪(ICP-MS/MS)

 

 

莱伯泰科作为主要国产仪器厂商之一,在分析仪器领域已深耕20年,始终坚守在推动我国科学仪器发展的前线近些年莱伯泰科在质谱创新之路的进展加速着国产替代的进程,以实际行动助力我国半导体产业健康稳步发展实现高水平科技自立自强。

光刻莱伯泰科展台2 

莱伯泰科展台